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    本发明提供一种即使对粉末状物或镜面物也能容易地使用的化学镀覆方法,另外还提供了用于该方法的金属镀覆前处理剂。该前处理剂由一种通过使用具有能够与贵金属离子形成配合物的活性官能团的氮杂茂类化合物与环氧硅烷类化合物反应而获得的硅烷偶合剂构成。对于使用该偶合剂进行过表面处理的被镀物,用一种含有贵金属离子的溶液处理后再通过化学镀来镀覆金属。
申    请    号: 99800009.4 申   请   日: 1999.04.23
名          称: 金属镀覆的前处理剂和使用该前处理剂的金属镀覆方法

公开 (公告) 号: CN1262711 公开(公告)日: 2000.08.09
主  分  类  号: C23C18/18 分案原申请号:
分    类    号: C23C18/18
颁   证     日: 优   先   权: 1998.7.7 JP 191601/1998
申请(专利权)人: 株式会社日本能源
地          址: 日本东京
发 明 (设计)人: 森英之; 熊谷正志 国  际 申 请: PCT.JP99/02180 1999.4.23
国  际  公  布: WO00.1862 日 2000.1.13 进入国家日期:
专利 代理 机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代   理   人: 杨宏军

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