申请公开说明书(16页)   English version
    提供了一种电解镀铜的方法,该方法适用于形成填充的通孔而不会损害沉积物的光亮度。在该方法中,在过渡金属氧化物的存在下进行镀铜。
申    请    号: 02154219.8 申   请   日: 2002.11.07
名          称: 电解镀铜的方法

公开 (公告) 号: CN1432666 公开(公告)日: 2003.07.30
主  分  类  号: C25D3/38 分案原申请号:
分    类    号: C25D3/38
颁   证     日: 优   先   权: 2001.11.7 JP 341976/2001
申请(专利权)人: 希普雷公司
地          址: 美国马萨诸塞
发 明 (设计)人: 土田秀树;日下大;林慎二朗;塚越觉 国  际 申 请:
国  际  公  布: 进入国家日期:
专利 代理 机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代   理   人: 郭建新

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