申请公开说明书(17页)  审定授权说明书(17页) English version
    公开了一种生产正性光敏抗蚀剂组合物的方法及用这种光敏抗蚀剂组合物涂覆适合的基片在基片上产生光敏抗蚀剂图象生产半导体元件的方法。
申    请    号: 02142837.9 申   请   日: 1996.09.18
名          称: 生产光敏抗蚀剂组合物的方法及用该组合物生产半导体元件的方法

公开 (公告) 号: CN1432870 公开(公告)日: 2003.07.30
主  分  类  号: G03F7/004 分案原申请号: 96197087.1
分    类    号: G03F7/004;C08G8/04
颁   证     日: 优   先   权: 1995.9.20 US 08/530,648
申请(专利权)人: 克拉里安特国际有限公司
地          址: 瑞士穆坦兹
发 明 (设计)人: M·D·拉曼;D·P·奥宾 国  际 申 请:
国  际  公  布: 进入国家日期:
专利 代理 机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代   理   人: 黄淑辉

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