| 申请公开说明书(136页) English version |
一种曝光装置，包括一光源(1)以及一照明光学系统IL，使当从该光源(1)的光照射于一罩幕M，利用通过该罩幕M的光而照射于一感旋光性基板P上，而形成于该罩幕M的一图案DP在该曝光装置中，转印到该感旋光性基板P。该照明光学系统IL包括对应于该感旋光性基板P上的感光特性，有切换照射于该罩幕M的光的波长幅度的一波长幅度切换装置(6、7)。 |
| 申 请 号： |
03100263.3 |
申 请 日：
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2003.01.07 |
| 名 称： |
曝光装置以及曝光方法
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| 公开 (公告) 号： |
CN1432874 |
公开(公告)日：
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2003.07.30 |
| 主 分 类 号： |
G03F7/20 |
分案原申请号： |
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| 分 类 号： |
G03F7/20;H01L21/027 |
| 颁 证 日： |
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优 先 权： |
2002.1.9 JP 2002－002623;2002.4.2 JP 2002－099814 |
| 申请(专利权)人： |
尼康株式会社 |
| 地 址： |
日本东京都 |
| 发 明 (设计)人： |
加藤正纪;小山元夫 |
国 际 申 请： |
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| 国 际 公 布： |
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进入国家日期： |
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| 专利 代理 机构： |
北京集佳专利商标事务所 |
代 理 人： |
王学强 |
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