专利：一类含偶氮苯染料的硅氧烷先驱体及其合成方法

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本发明公开了一类含偶氮苯染料的硅氧烷先驱体，其结构通式如式1，其中，R为氰基、硝基或氯原子。将含R基团的偶氮苯染料与异氰酸基丙基三乙氧基硅烷进行加成反应即得含偶氮苯染料的硅氧烷先驱体。该类硅氧烷先驱体合成工艺简单，纯化容易，可用来制备化学键连型的无机-有机杂化材料，有望在电光调制、光开关以及相位共轭等非线性光学领域得到实际应用。

申请号：

200610052048.2

申请日：

2006.06.19

名称：

一类含偶氮苯染料的硅氧烷先驱体及其合成方法

公开 (公告) 号：

CN1896081

公开(公告)日：

2007.01.17

主分类号：

C07F7/18(2006.01)I

分案原申请号：

分类号：

C07F7/18(2006.01)I

颁证日：

优先权：

申请(专利权)人：

浙江大学

地址：

310027浙江省杭州市西湖区浙大路38号

发明 (设计)人：

钱国栋;崔元靖;陈鹭剑;王智宇;邱建荣;樊先平;洪樟连;王民权

国际申请：

国际公布：

进入国家日期：

专利代理机构：

杭州求是专利事务所有限公司

代理人：

韩介梅

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